6月6日、UltraPure Micro 2019 Conferenceにおいて、以下概要により、当社技術者による発表を行います。
・6th June 16:00-17:00 Ultrapure Water Production, UPW Session 3 Innovative Design
"Silica and Boron Removal Technology Using EDI and Analysis Technology"
Teruhisa Kato
・7th June 11:15-12:45 Ultrapure Water Production, UPW Session 5 Analytical
"Manufacture and Analytical Technologies of pg/L Grade Metals in UPW"
Yasuharu Minato
また、ブースでは半導体製造プロセスにおける顧客ニーズに応える最新ソリューションをご紹介いたします。
UltraPure Micro 2019 Conference
June 5 – 7, 2019 / PHOENIX, ARIZONA, USA
Ultrapure Micro Conferenceでは、半導体業界の超純水と化学処理に関する最新のトレンドを発信します。 UltraPure Micro 2019はアメリカアリゾナ州フェニックスで開催され、「未来に繋がる：品質、可能性、信頼性」をテーマに各種討論が行われます。
詳細についてはここをご参照ください(http://ultrapuremicroevents.com/)